廣西氧化硅拋光材料廠
發布時間：2024-07-02 02:06:09
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拋光液中腐蝕介質主要有酸和堿。酸性拋光液常采用有機酸，可起到腐蝕作用，增加拋光過程的去除率，但其腐蝕性大，選擇性差，對拋光設備要求高，常用于銅、鎢、欽等金屬材料的拋光。目前的酸性拋光液中主要采用兩類不同的有機酸：一類是帶有多功能團的氨基酸，另一類是從簡單竣酸、輕基竣酸和它們二者的混合酸中挑選出來的。研究發現，相對于單獨使用任一類有機酸的拋光液，使用兩類有機酸混合的拋光液的去除率較大。此外，有研究表明，隨著拋光液pH值的增大，化學拋光占次要地位，機械拋光占主導作用，導致被拋光工件表面的質量下降，需加入有機酸進行調節。堿性拋光液一般選用氧氧化鈉、氧氧化鉀、有機胺等堿性物質來調節拋光液的酸堿性。堿性拋光液的腐蝕性低，選擇性高，常用于硅、氧化物、光阻材料等非金屬材料的拋光。但是，堿性拋光液不容易找到氧化勢能高的氧化劑，影響拋光效果。
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鈰基拋光粉是拋光過程的頂部，一般由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等成分組成。不同材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此應用場合也不同。鈰基拋光粉是較重要的拋光粉產品之一。由于其切割能力強，拋光時間短，拋光精度高，操作環境清潔等優點，因此比其他拋光粉好。對于高鈰拋光粉，氧化鈰等級越高，拋光能力越大，使用期限也越長，特別是硬玻璃長期循環拋光（石英、光學透鏡號），宜使用鈰拋光粉。目前，我國生產氧化鈰稀土拋光粉有多種材料，不同的材料對應不同的制備工藝。
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目前，在藍寶石的CMP工藝中，常用的磨料主要包括金剛石、二氧化硅溶膠、氧化鈰和氧化鋁等磨料。實驗數據表明，氧化鋁拋光粉在藍寶石拋光過程中的優勢逐漸明顯。金剛石只用于傳統的機械拋光，其硬度（莫氏10）比藍寶石（莫氏9）硬度高，容易產生劃傷，藍寶石表面損傷度高，良率低。氧化鋁的硬度與藍寶石相當，顆粒球型，拋光速率高，良率高，是比較理想的拋光材料。而SiO2硬度（莫氏硬度7.5）比藍寶石低，拋光速率比氧化鋁拋光粉慢很多，拋光比較耗時。在拋光平面藍寶石襯底時，氧化鋁拋光粉制成的研磨液的拋光性能（去除速率和表面質量等）優于其他磨料。
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拋光液在加工過程中所表現的四個特點：1、防銹的特點，能夠保證不產生銹蝕，適當的加入防銹劑，需要要求防銹處理，主要是針對水性研磨拋光液而言，對于油性研磨拋光液，一般是不會產生銹蝕的問題。2、潤滑作用。主要是指研磨拋光液滲入工件以及磨粒切屑之間所形成的潤滑膜，這層膜能夠減輕摩擦，使砂輪耐用度增加，有效的防止工件表面粗糙度出現惡化。3、清理作用。在一定時間內起到潤滑作用，洗掉堆積在氣孔中的磨屑，防止堵塞，粘度越低的話，其滲透性也會越容易，其清洗切屑的能力也就越強。4、冷卻性，研磨拋光液在研磨加工中能夠迅速的吸收被加工的時候所產生的熱，使其溫度下降，維持工件表面的精度，防止工件表面完整度出現惡化，保證磨粒自銳作用。如果研磨拋光液流量越大的話，其冷卻能力會比較高，工件表面溫度比較低。
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CMP拋光是一種光機械化學混合工藝，通過在材料表面施加機械力，加入化學物質，實現表面光滑光滑。CMP拋光液由顆粒磨料、化學物質和緩沖劑組成。其中，磨粒用于去除材料表面的凸起部分，化學物質通過化學變化去除微凸起，提高表面質量，緩沖劑用于調節液體的pH值和粘度，提供良好的拋光環境。CMP拋光液的工藝流程主要包括預處理、拋光和清洗三個步驟。1、預處理：拋光前，需要對拋光材料進行預處理，去除表面污染物和氧化層，平整材料表面。預處理方法包括表面清潔、化學腐蝕和熱處理。2、拋光：拋光時，將拋光液倒入拋光機的拋光盤中，然后將待拋光的材料放在拋光盤上。通過調整壓力和速度，使拋光盤上的液體和材料表面相對滑動，實現磨粒與材料表面的接觸，去除材料的凹陷，提高表面平整度。3、清洗：拋光后，清洗材料，去除拋光液和拋光產品，確保表面清潔光滑。清洗方法選擇超聲波清洗、純水清洗、浸泡等。