上海稀土拋光粉廠
發布時間：2023-11-11 02:31:02
上海稀土拋光粉廠
目前，市場對稀土拋光材料的質量要求不同，質量不均勻，使得許多用戶難以判斷制造商的質量和產品質量。因此，接下來就給大家詳細介紹稀土拋光材料的質量要求，以便打架選擇。具體情況如下：1、在允許范圍內，微粉粒徑分布均勻。2、不含任何機械雜質，純度高。3、可適量添加LBD-分散劑具有良好的分散性和吸附性，保障加工的均勻性和效率。4、粉末顆粒具有網格形狀，破碎時形成尖角，可提高拋光效率。5、由于稀土拋光材料需要用水溶解，因此具有適當的硬度和密度、良好的潤濕性和與水的懸浮性。
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CMP拋光液廣泛應用于光學材料的制備和生產，可用于玻璃、硅片、藍寶石、硅晶圓等材料的拋光。提高材料的表面平整度、光學性能和機械性能，提高光學設備的質量和性能。1、光學玻璃的制備：光學玻璃是制造光學器件和光學元件的常用材料，如鏡片、鏡片等。通過使用CMP拋光液，可以實現玻璃表面的光滑，提高玻璃的折射率、透光率和抗反射性能，從而提高光學器件的分辨率和成像質量。2、硅晶圓拋光:硅晶圓是集成電路（IC）通過使用CMP拋光液，可以消除硅晶圓表面的不足和殘留，提高晶圓的平整度和光潔度，提高IC的生產質量和性能。3、光纖表面加工：光纖是傳輸光信號的重要組成部分。使用CMP拋光液可以提高光纖的表面光滑度和平面度，減少光纖的損耗和衰減，提高光纖的傳輸性能和質量。
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拋光液中助劑常用的有氧化劑、潤滑劑、緩蝕劑、分散劑等。氧化劑能夠在拋光工件表面形成氧化膜，有利于后續的機械拋光，從而提高拋光效率和表面平整度；潤滑劑用于在拋光過程中降低磨料物質和拋光工件表面之間的摩擦；緩蝕劑以適當的濃度和形式存在于環境(介質)中時，能防止或減緩材料腐蝕，可單一使用，也可幾種緩蝕劑復合使用；分散劑能夠增加磨料粒子之問的斥力，防止磨料團聚，保證拋光液的穩定性，減少工件表面缺陷。助劑的選擇非常重要。
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制備鈰基拋光粉的主要方法：1、稀土碳酸鹽混合物(CeO制備鈰拋光粉工藝：將稀土碳酸鹽混合物煅燒成稀土氧化物，CeO(oH)2.用酸處理沉淀和三價稀土溶液。CeO(OH)2沉淀.干燥.煅燒可得到CeO含量為98-99%的高鈰拋光粉，可獲得酸處理CeO2含量為5-5um.平均粒徑為1.高鈰拋光粉-2um，與其它鈰基拋光粉相比，具有良好的拋光能力。2、氯化稀土溶于水形成氯化稀土溶液，氫氧化鈰用堿和氧化劑處理，鈰精礦用酸處理，沉淀劑用沉淀，即干燥.煅燒.粉碎.分級.混合得到CeO2.氯化鈰80%-90%。3、稀土輕氯化物.氟硅酸.碳酸氫銨是一種由稀土氟碳酸沉淀的沉淀劑.水洗.過濾.煅燒.篩分球磨等工藝。得到的產品顆粒細小均勻，化學活性強，拋光效率高。